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レンズ、半導体デバイス用シリコンウエハ、液晶ディスプレイ用ガラス基板等の表面を研磨する研磨材の一時的な保持力を改善し、研磨能率を向上できる研磨パッド

整理番号 1529 特許状況 特許公開
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分野 電機・電子・光学、機械・プラント・生産ライン





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