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○高価なモールドを汚損させることなく、生産性の高い光インプリント方法、安価かつ正確に複製可能なモールド複製方法、及びこれで複製されたモールドの複製品

整理番号 1511 特許状況 特許取得
概要 大規模集積回路や液晶ディスプレイなどの電子デバイス、光集積回路や光ディスクなどの光デバイス、免疫分析チップやDNAチップなどの化学・バイオ関連デバイスなどを安価に製造する微細加工方法として、インプリント方法が注目されています。インプリント方法は、熱インプリントと光インプリントの2つに大別できます。
光インプリント方法は、
①大規模な製造装置を必要としない、
②高精度の製品を製造できる、等の特徴があり、熱インプリント方法に比べて優れていますが、熱インプリント方法と同様に、ニッケル、単結晶シリコン、石英やサファイヤなどの透明材料をフォトリソグラフィ方法等によって加工した高価なモールドを必要とします。更に、パターンの転写を繰り返すうちに、モールドの溝が閉塞して、高価なモールドが汚損し、転写したパターンの一部に欠損が生じてしまう問題点があります。
本技術はこれらの問題点を解決する生産性の高い光インプリント方法で、
①高価なモールドを汚損することなく安価、正確に複製できるモールド複製方法、
②このモールド複製方法により複製されたモールドの複製品を提供することを可能にしています。
キーワード:光インプリント方法、モールド複製方法、モールド複製品
目的 共同研究、ライセンス契約を希望します。
分野 電機・電子・光学、機械・プラント・生産ライン、ナノテク関連(ナノカーボンほか)





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