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○大気圧ライン状高温プラズマによる表面処理技術

整理番号 1378 特許状況 特許取得
概要 大気中でプラズマジェットの照射により、シリコン等の非晶質薄膜を溶融し結晶化させる際に、より短時間で均一な多結晶薄膜が得られる結晶化装置、及びその方法を提供します。ガラス基板等の絶縁基板上の多結晶薄膜製造技術は、電子デバイス性能を決定する重要な技術です。
1)レーザーを用いた非晶質薄膜の結晶化方法は、大掛かりで高価な装置が必要で、製品の製造コストが高くなる、
2) 従来の点状のプラズマジェット方式は、製品を低コストで提供できますが、結晶化の速度、及び面内の均一性の問題があります。
本技術は、これらの問題を解決すべく、ライン状の高温プラズマジェットを生成し、非晶質薄膜の溶融・結晶化を行うため、従来の技術に比べて、生成時間が大幅に短縮でき、多結晶薄膜を均一形成できる非晶質薄膜を結晶化するものです。
半導体プロセス、太陽電池製造等の分野に利用可能です。
キーワード:非晶質薄膜の結晶化、プラズマジェット、ライン状、短時間、均一性
目的 共同研究、ライセンス契約を希望します。
分野 電機・電子・光学





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