現在地 :  ホーム > シーズを探す > 電機・電子・光学 > ○長時間一定品質の皮膜を基板上に形成可能な新規技術

○長時間一定品質の皮膜を基板上に形成可能な新規技術

整理番号 1082 特許状況 特許取得
概要 基板表面に長時間に亘って高品質、大面積の被膜を生成可能な新規な技術と装置を提供します。従来の被膜生成技術であるレーザーアブレーション法は、一定品質の皮膜を形成するためには、
1)固体ターゲットを回転させ移動させるために移動機構を備えた保持装置が必要
2)広い面積の被膜作成が困難
3)膜厚にムラができやすいなどの難点がありました。
本技術は斯かる問題を解決するもので、レーザー光が照射される蒸散領域において、被膜原料を含む被膜原料溶液をソースとして液体ターゲットに供給し、蒸散した被膜原料を基板表面に堆積させることによる被膜を生成することを特徴とするものです。
本装置および方法では、長時間一定条件で液体ターゲットを蒸散可能なため、高品質で、大面積の被膜を生成することを可能とする有用性を持っています。
キーワード:被膜生成、レーザーアブレーション法、液体ターゲット
目的 共同研究、ライセンス契約を希望します。
分野 電機・電子・光学





お探しのシーズが見当たらない場合には、下の各種お問合せボタンからご連絡ください。
また、シーズ掲載を希望される場合は、フォームに「シーズ掲載希望」とご記入ください。
COPYRIGHT(C) 2016 NOMURA SECURITIES CO., LTD. ALL RIGHTS RESERVED.