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○シリコンウェーハ中に存在する原子空孔濃度を効率的に評価できる定量評価方法、シリコンウェーハの製造方法、及び本法で製造するシリコンウェーハ技術

整理番号 2807 特許状況 特許取得
概要 シリコンウェーハ中に存在する原子空孔濃度を効率的に評価できる定量評価方法、シリコンウェーハの製造方法、および当該製造方法により製造したシリコンウェーハ技術を提供します。これまでに当研究室から提案した原子空孔分析装置は、シリコン試料を冷却しながら結晶試料に超音波を通過させ、超音波音速変化又は超音波吸収変化とシリコン試料の冷却温度との関係を示す曲線の急峻な落ち込み量に基づいて原子空孔濃度を求めるものです。
しかしながら、この分析装置ではシリコン試料の冷却温度を種々変化させるために、測定に長時間を要する問題がありました。本技術はこの問題を解決したものです。
即ち、シリコンウェーハを一定の温度に保持したまま、
①外部磁場を印加した状態で、超音波パルスを発振すると共に、超音波パルスをシリコンウェーハ中に伝搬させた測定波パルスを受信し、超音波パルスと測定波パルスとの位相差を検出する検出工程、
②位相差から弾性定数を算出する算出工程、を備え、温度一定の状態で、外部磁場を変化させて、この変化に対応した弾性定数の変化量を測定し、シリコンウェーハ中の原子空孔濃度を評価するものです。
キーワード:シリコンウェーハ、原子空孔濃度の定量評価方法、シリコンウェーハの製造方法
目的 共同研究、ライセンス契約を希望します。
分野 電機・電子・光学、センサ・計測・検査





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