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○フォトリソグラフィを必要としない透明フレキシブル微細回路の形成技術

整理番号 1106 特許状況 特許公開
概要 プラスチックやガラス基板上にフォトリソグラフィを用いることなく、直接、超微細回路を作製する方法を開発しました。従来、フィルムや基板等の基体上に任意の導電体のパターンを形成する場合、フォトリソグラフィ工程とエッチング工程が知られていますが、工程数が多く、高価なフォトマスクを使用する必要があり、露光工程の際に光学レンズ等によりパターンを結像させるため、光学レンズの解像限界以下の微細な回路パターンを形成することは困難でした。
本技術は、これらに対応するもので、マスク(レチクル)やエッチングを用いずに、電子線描画により酸化物薄膜に直接任意形状の回路・電極を形成するものです。金属酸化物膜を透明部材で構成した場合には、光学特性が均一になる利点があるため、配線と周囲の絶縁領域との切れ目が無いため見た目も美しく、酸化物薄膜/ガラスまたはプラスチック構造にすることでタッチパネル用透明電極等への適用も容易です。
キーワード:フォトリソグラフィ、超微細回路、電子線描画、導電体パターン
目的 共同研究、ライセンス契約を希望します。
分野 電機・電子・光学





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